NANOSCRIBE推出种用于微光学的双光子3D打印机
时间:2019-06-25 10:04 来源:中国3D打印网 作者:中国3D打印网 阅读:次
根据Nanoscribe的联合创始人兼CSO Michael Thiel博士的说法,“Beer's定律对当今的无掩模光刻设备施加了强大的限制。 Quantum X采用双光子灰度光刻技术,克服了这些限制,提供了前所未有的设计自由度和易用性。我们的客户正在微加工的最前沿工作。“
双光子Quantum X机器。图片:Nanoscribe。
纳米3D打印
Nanoscribe成立于卡尔斯鲁厄理工学院,现在在上海设有子公司,在美国设有办事处。该公司在德国历史最悠久,规模最大的光学系统制造商之一蔡司财务的支持。纳米标记系统基于双光子吸收,这是一种分子被激发到更高能态的过程。为了使用双光子工艺制造3D物体,使用含有单体和双光子活性光引发剂的凝胶作为原料。将激光照射到光敏材料上以形成纳米尺寸的3D打印物体,其中吸收的光的强度最高。
Nanoscribe的Photonic Professional GT在研究中得到了广泛的应用,并在哈佛大学纳米系统中心,加州理工学院,伦敦帝国理工学院,苏黎世联邦理工大学和庆应义塾大学使用。最近,据报道,Nanoscribe还加入了MiLiQuant项目,并将利用其在光子技术方面的专业知识将量子技术推向工业水平。除双光子机器外,Nanoscribe还生产负性树脂,称为IP光树脂。
Nanoscribe提供的一系列纳米级样品。图像通过Nanoscribe。
3D打印衍射光学
Quantum X系统是在慕尼黑2019年的LASER光子世界(A3.325展位)上推出的,专门用于制造衍射光学元件(DOE)。这些微型光学器件用于材料的激光加工领域,因为DOE可以精确地控制激光的路径和“形状”。微光学还用于激光雷达扫描和基于激光的医学治疗。制造DOE的最常见方法之一是基于集成电路的制造过程,其可能需要多达十二个步骤。但是,使用Quantum X机器,DOE可以直接从CAD直接打印。Quantum X将是微光学,小批量生产和研发的快速原型设计的理想解决方案。
在Quantum X机器上打印的微透镜阵列3D的SME图像。图像通过Nanoscribe。
技术规格
印刷技术双光子灰度光刻(2GL)
最小XY尺寸160 - 200 nm(取决于使用的光致抗蚀剂)
XY分辨率400-500 nm(取决于所用的光敏素)
最佳垂直步长10 nm
扫描速度≤250mm / s
面积印刷速度为3mm2/ h,适用于衍射光学元件
(责任编辑:admin)
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